特許
J-GLOBAL ID：201103049208800127
プラズマCVD装置用粉除去方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (7件)：
工藤 実
, 中尾 圭策
, 鈴江 武彦
, 村松 貞男
, 坪井 淳
, 橋本 良郎
, 河野 哲
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-254341
公開番号（公開出願番号）：特開2001-073143
特許番号：特許第3746643号
出願日： 1999年09月08日
公開日（公表日）： 2001年03月21日
請求項（抜粋）：
【請求項1】プラズマ発生部と、排気用ポンプと、前記プラズマ発生部と前記排気用ポンプとを接続するための配管とを有するプラズマCVD装置において、前記配管の内部に堆積する内粉を除去するためのプラズマCVD装置用粉除去方法であり、
前記配管は、鉛直向きに配設される垂直配管部と、前記垂直配管部の上端と前記プラズマ発生部とを接続する接続配管部とを備え、
前記垂直配管部は、前記垂直配管部の任意位置から分岐して前記排気用ポンプと前記垂直配管部とを接続する分岐配管を備え、
前記垂直配管部の下端には、前記プラズマ発生部から前記配管の内部に堆積した内粉を落下させて収容する収容部が接続され、
前記排気用ポンプにより前記プラズマ発生部の内部を真空排気するとともに、前記配管の内部に堆積する内粉を前記垂直配管部に導入し、前記内粉が前記収容部に落下して収容され、
前記収容部は、前記収容部に収容される前記内粉を外部へ取り出すための開閉自在なフランジを有することにより、前記内粉が外部へ取り出されることを特徴とする
プラズマCVD装置用粉除去方法。
IPC (2件)：
C23C 16/44 ( 200 6.01)
, H01L 21/31 ( 200 6.01)
C23C 16/44 J
, H01L 21/31 C
