特許
J-GLOBAL ID：201103049431978353
現像装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松川 克明
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-150749
公開番号（公開出願番号）：特開2001-331023
特許番号：特許第4362944号
出願日： 2000年05月23日
公開日（公表日）： 2001年11月30日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 導電性基体の表面に複数の層が設けられた現像剤担持体の表面に現像剤を保持させて像担持体と対向する現像領域に搬送させ、この現像剤担持体に現像バイアス電圧を印加させて現像を行うと共に、この現像剤担持体の表面に接触する少なくとも1つの接触部材に現像剤担持体と異なる電圧を印加させるようにした現像装置において、上記の接触部材が現像剤担持体の表面に接触する位置から現像剤が上記の現像領域に導かれるまでの間に、形成される画像に濃度むらが発生しない程度にまで、現像剤担持体と異なる電圧が印加された接触部材との接触によって現像剤担持体の表面に与えられた電荷が減衰するように、上記の接触部材の印加電圧と現像バイアス電圧との電位差に応じて、現像剤担持体の回転方向における接触部材が現像剤担持体の表面に接触する位置から現像領域に至るまでの距離D(mm)、及び、現像剤担持体の表面の速度v(mm/s)を設定すると共に、上記の現像剤担持体における導電性基体と複数の層が設けられた表面との間のインピーダンスZ1 を、この現像剤担持体の表面において上記の距離D(mm)を介した表面間のインピーダンスZ2 より小さくするようにしたことを特徴とする現像装置。
IPC (2件)：
G03G 15/06 ( 200 6.01)
, G03G 15/08 ( 200 6.01)
G03G 15/06 101
, G03G 15/08 501 D
