特許
J-GLOBAL ID:201103049772831563
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
高松 猛
, 矢澤 清純
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-251477
公開番号(公開出願番号):特開2011-095635
出願日: 2009年10月30日
公開日(公表日): 2011年05月12日
要約:
【課題】DOF、保存安定性、解像性、パターン形状が改良され、線幅45nm以下の液浸プロセスにも適合した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により塩基を発生する化合物、(B)ラクトン構造を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び(C)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
(A)活性光線又は放射線の照射により塩基を発生する化合物、
(B)ラクトン構造を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び
(C)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
IPC (4件):
G03F 7/004
, G03F 7/039
, C08F 20/28
, H01L 21/027
FI (6件):
G03F7/004 503B
, G03F7/004 503A
, G03F7/004 501
, G03F7/039 601
, C08F20/28
, H01L21/30 502R
Fターム (85件):
2H125AF17P
, 2H125AF18P
, 2H125AF21P
, 2H125AF36P
, 2H125AF38P
, 2H125AG00P
, 2H125AH06
, 2H125AH12
, 2H125AH13
, 2H125AH15
, 2H125AH17
, 2H125AH18
, 2H125AH19
, 2H125AH22
, 2H125AH29
, 2H125AJ04X
, 2H125AJ14X
, 2H125AJ16X
, 2H125AJ48X
, 2H125AJ65X
, 2H125AJ69X
, 2H125AM12P
, 2H125AM22P
, 2H125AM32P
, 2H125AM42P
, 2H125AM91P
, 2H125AM94P
, 2H125AM99P
, 2H125AN38P
, 2H125AN39P
, 2H125AN42P
, 2H125AN45P
, 2H125AN54P
, 2H125AN62P
, 2H125AN64P
, 2H125AN65P
, 2H125AN86P
, 2H125BA01P
, 2H125BA02P
, 2H125BA26P
, 2H125BA32P
, 2H125BA33P
, 2H125CA12
, 2H125CB09
, 2H125CC03
, 2H125CC15
, 2H125FA03
, 4J100AB04R
, 4J100AB07Q
, 4J100AB07S
, 4J100AJ02S
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08R
, 4J100AM21Q
, 4J100AR11Q
, 4J100BA03Q
, 4J100BA03R
, 4J100BA12Q
, 4J100BA15P
, 4J100BA15Q
, 4J100BA15S
, 4J100BA40Q
, 4J100BB07P
, 4J100BB07Q
, 4J100BB18P
, 4J100BB18Q
, 4J100BC03Q
, 4J100BC04Q
, 4J100BC04R
, 4J100BC08P
, 4J100BC08Q
, 4J100BC09Q
, 4J100BC09R
, 4J100BC43P
, 4J100BC53P
, 4J100BC53Q
, 4J100BC84Q
, 4J100CA01
, 4J100CA04
, 4J100CA05
, 4J100CA06
, 4J100DA01
, 4J100DA04
, 4J100JA38
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