特許

J-GLOBAL ID：201103049874441697

X線マッピング分析方法

発明者： 長谷川 清
出願人/特許権者： エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社
代理人 (3件)： 久原 健太郎 ,  内野 則彰 ,  木村 信行
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-173981
公開番号（公開出願番号）：特開2002-365246
特許番号：特許第4630490号
出願日： 2001年06月08日
公開日（公表日）： 2002年12月18日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 試料に1次ビームを照射しX線を励起させる励起手段と、 試料に対して前記1次ビームを前後左右に制御できる1次ビーム制御手段と、 前記試料からのX線をエネルギ弁別しながらX線強度を計数するX線検出手段と、 前記X線検出手段で得たX線スペクトルを比較するスペクトル比較手段と、 測定の途中でX線スペクトルを登録できるスペクトルデータベースと、 を備えたX線マッピング装置のX線マッピング分析方法において、 前記スペクトルデータベースを空にした状態で測定を開始し、前記1次ビーム制御手段によって試料内の指定された場所に1次ビームを照射し、一定時間試料に1次ビームを照射してX線スペクトルを取得し、測定で得たX線スペクトルと前記スペクトルデータベース内のX線スペクトルとをスペクトル比較手段で比較し、データベース内に一致するX線スペクトルが存在しない場合に、測定で得たX線スペクトルをデータベースに追加登録し、指定された測定点での測定を繰り返すことで、データベースには、試料中に存在する代表的なX線スペクトルを取得できることを特徴とするX線マッピング分析方法。

IPC (3件)：

G01N 23/223 ( 200 6.01) ,  G01N 23/225 ( 200 6.01) ,  G01T 1/36 ( 200 6.01)

FI (3件)：

G01N 23/223 ,  G01N 23/225 ,  G01T 1/36 A