特許

J-GLOBAL ID：201103050002557500

真空装置の脱ガス方法及び脱ガス装置

発明者： 上田 新次郎 ,  小針 利明 ,  加賀爪 明子
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男 (外1名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-242229
公開番号（公開出願番号）：特開平3-106432
特許番号：特許第2708569号
出願日： 1989年09月20日
公開日（公表日）： 1991年05月07日
請求項（抜粋）：

【請求項1】真空装置の内表面に吸着されたガスの脱ガス方法において、真空装置内部の温度に応じて加熱温度が調整されたガスを内部に導入することにより、装置内表面を加熱して内表面に吸着しているガス分子を脱離させると共に導入している高温ガス中に拡散させ、さらに排出されるガスと一緒に装置外に除去する脱ガス方法。

IPC (3件)：

B01J 3/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

FI (3件)：

B01J 3/00 N ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B