特許
J-GLOBAL ID：201103050048989242
研磨パッド
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
五十嵐 俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-223047
公開番号（公開出願番号）：特開2011-067923
出願日： 2009年09月28日
公開日（公表日）： 2011年04月07日
要約：
【課題】セルフドレッシング性を発揮させ被研磨物の平坦性を向上させることができる研磨パッドを提供する。【解決手段】研磨パッド10は、ウレタン樹脂で形成された発泡シート2を有している。発泡シート2は、湿式成膜法により形成された連続状の発泡構造を有している。発泡シート2には、5重量%以下に制限されたカーボンブラック5と1〜5重量%の範囲のコロイダルシリカ4が母材中に略均一に含有されている。コロイダルシリカ4の平均粒子径は、10nm〜100nmの範囲に制限されている。カーボンブラック5およびコロイダルシリカ4が共に、研磨加工中、発泡シート2の発泡形状を保つ役割を果たす。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
湿式成膜法により形成された樹脂製発泡シートを備えた研磨パッドにおいて、前記発泡シートは、5重量%以下の非晶質炭素と1重量%〜5重量%の範囲のコロイダル粒子とが略均一かつ略均等に含有されていることを特徴とする研磨パッド。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B24B37/00 L
, H01L21/304 622F
3C058AA07
, 3C058AA09
, 3C058CA06
, 3C058CB01
, 3C058CB04
, 3C058DA17
