プラズマ処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：丸山隆夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-007532
公開番号（公開出願番号）：特開2000-208491
特許番号：特許第3367439号
出願日： 1999年01月14日
公開日（公表日）： 2000年07月28日
請求項（抜粋）：

【請求項1】処理すべきウェハを載置するためのウェハ載置台を収容している反応容器と、該反応容器の上部に上下に所定間隔をおいて配置されている上部誘電体板部材と下部誘電体板部材と、前記上部誘電体板部材にマイクロ波を導入するためのマイクロ波供給装置と、前記反応容器の内部上部に配置されている対向電極とを有するプラズマ処理装置において、前記下部誘電体板部材の中央部の下面に固定されている誘電率調整用誘電体部材を有することを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (3件)：