特許
J-GLOBAL ID:201103050302125563
銅めっき方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
藤井 紘一
, 藤井 健一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-160567
公開番号(公開出願番号):特開2011-017036
出願日: 2009年07月07日
公開日(公表日): 2011年01月27日
要約:
【課題】優先配向面が(200)面となる皮膜物性に優れためっき皮膜を得ることのできる銅めっき方法を提供すること。【解決手段】硫酸銅を主成分とするめっき浴液に、少なくとも、ジアリルジアルキルアンモニウムアルキルサルフェイトとアクリルアミド類と二酸化イオウとの共重合体からなる添加剤と、その他の必要な添加剤とを添加し、高電流密度による電解めっきと低電流密度による電解めっきを交互に、あるいはPRパルス(極性反転パルス)による電解めっきを交互に、あるいは電解銅めっきと置換めっきを交互に、あるいは電解銅めっきとマイクロエッチングを交互に、あるいは上記いずれかのめっき方法の2つ以上を組み合わせることにより、電解めっきを行う。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
下記(1)の基本組成からなるめっき浴液に下記(2)〜(4)の添加剤を添加しためっき浴液を用い、下記(5)のめっき方法によって電解めっきすることを特徴とする銅めっき方法。
(1)めっき浴液の基本組成
硫酸銅5水和物:40〜300g/L
硫酸:30〜300g/L
塩素イオン:20〜100mg/L
(2)第1添加剤
ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、プルロニック型界面活性剤、テトロニック型界面活性剤、ポリエチレングリコール・グリセリルエーテル、ポリエチレングリコール・ジアルキルエーテル中から選ばれる1成分もしくは2成分以上を100〜20000mg/L添加
(3)第2添加剤
スルホアルキルスルホン酸塩、ビススルホ有機化合物、ジチオカルバミン酸誘導体中から選ばれる1成分もしくは2成分以上を0.02〜200mg/L添加
(4)第3添加剤
ジアリルジアルキルアンモニウムアルキルサルフェイトとアクリルアミド類と二酸化イオウとの共重合体を10〜1000mg/L添加
(5)めっき方法
IPC (3件):
C25D 3/38
, C25D 5/18
, H05K 1/09
FI (3件):
C25D3/38 101
, C25D5/18
, H05K1/09 A
Fターム (28件):
4E351BB01
, 4E351BB30
, 4E351CC06
, 4E351DD04
, 4E351GG11
, 4E351GG20
, 4K023AA19
, 4K023BA06
, 4K023CB03
, 4K023CB32
, 4K023DA02
, 4K023DA06
, 4K023DA07
, 4K024AA09
, 4K024AB02
, 4K024AB17
, 4K024BA01
, 4K024BA09
, 4K024BA12
, 4K024BB11
, 4K024BC01
, 4K024CA01
, 4K024CA02
, 4K024CA06
, 4K024CA07
, 4K024CA08
, 4K024GA07
, 4K024GA16
引用特許: