特許
J-GLOBAL ID：201103050447565367

屈折率摂動形成方法とグレーティングパターン形成方法

発明者：
ビクター ミズラヒ

ビクター ミズラヒ について

, 
リン フレデリック モレノー

リン フレデリック モレノー について


出願人/特許権者：
エイ・ティ・アンド・ティ・コーポレーション

エイ・ティ・アンド・ティ・コーポレーション について


代理人 (12件)： 岡部 正夫 ,  加藤 伸晃 ,  産形 和央 ,  臼井 伸一 ,  藤野 育男 ,  越智 隆夫 ,  本宮 照久 ,  高梨 憲通 ,  朝日 伸光 ,  高橋 誠一郎 ,  吉澤 弘司 ,  三俣 弘文
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-084997
公開番号（公開出願番号）：特開2001-305327
特許番号：特許第3575689号
出願日： 2001年03月23日
公開日（公表日）： 2001年10月31日
請求項（抜粋）：
【請求項1】軸方向を定める光伝播軸を有する感光性光学媒質に屈折率摂動を形成する方法において、a.波長λを有する電磁放射の2つの平行な同一直線上にないビームを発生するステップと、b.2つのビームが角度φで交差するように前記媒質の少なくとも一部に前記ビームを照射することにより前記軸方向に周期的な干渉パターンを生成する照射ステップと、c.干渉パターンの少なくとも局所的なコヒーレンスを保存しながら屈折率摂動が前記媒質に生成されるように、前記媒質に対して干渉パターンの照射部分を前記軸方向に移動させるステップと、d.前記ステップcの間に、生成される屈折率摂動の平均振幅が所定パターンに従って前記軸方向に変化するように、摂動の各点が受ける前記ビームの線量を変化させるステップとからなり、前記ビームはパルス放射源によって発生され、前記ステップdは、該放射源のパルス反復レートを変化させることにより前記ビームの平均強度を変化させるステップを含む屈折率摂動形成方法。
IPC (3件)：
G02B 5/18 ,  G02B 6/10 ,  G02B 6/16
FI (3件)：
G02B 5/18 ,  G02B 6/10 C ,  G02B 6/16
引用特許：
審査官引用 (5件)
  • 回折格子プロツター
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-231955   出願人：凸版印刷株式会社
  • 特開昭50-039560
  • 特開昭57-150805
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