特許
J-GLOBAL ID:201103050599622587

ウェーハ回転保持装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 石原 進介 ,  石原 詔二
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-070063
公開番号(公開出願番号):特開2001-148414
特許番号:特許第4111479号
出願日: 2000年03月14日
公開日(公表日): 2001年05月29日
請求項(抜粋):
【請求項1】 上面に羽根板を放射線状に設けることによって媒体流路を形成した回転円板と、該回転円板の中心部に穿設された貫通孔と、該回転円板の上面に設けられた複数個のウェーハ受け部とを有し、該ウェーハ受け部を介してウェーハを該回転円板の上方に間隔を介在させて載置し、該回転円板を回転させると、該媒体流路内の媒体が、回転による遠心力によって外方に排出され、これによって該媒体流路内に減圧状態を出現せしめ、この減圧状態の吸引力によって、該回転円板の下面側から該貫通孔を介して吸引された媒体が該回転円板の上面に供給され、該媒体はさらに該媒体流路内を通って連続的に外方に排出され、このようにして該回転円板が回転している限り該媒体流路内に減圧状態を出現せしめ、この減圧状態の吸引力によって該ウェーハを下方に吸引し該ウェーハの外周部を該ウェーハ受け部によって回転保持するようにしたことを特徴とするウェーハ回転保持装置。
IPC (5件):
H01L 21/683 ( 200 6.01) ,  B05C 11/08 ( 200 6.01) ,  B05D 1/40 ( 200 6.01) ,  B05D 7/00 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)
FI (5件):
H01L 21/68 N ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 A ,  B05D 7/00 H ,  H01L 21/30 564 C
引用特許:
審査官引用 (8件)
  • 特開平4-053684
  • 基板処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-351059   出願人:大日本スクリーン製造株式会社
  • 処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-116390   出願人:東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
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