洗浄装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：油井透 (外2名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-109143
公開番号（公開出願番号）：特開2001-286834
特許番号：特許第3448009号
出願日： 2000年04月11日
公開日（公表日）： 2001年10月16日
請求項（抜粋）：

【請求項1】洗浄剤を使用してワークの洗浄を密閉容器中で行なう洗浄装置において、前記密閉容器と連通され、前記密閉容器内のガスの圧力に応じて、前記密閉容器との間で前記ガスのやり取りをする密閉タンクを設けた洗浄装置において、前記密閉タンクは、上部が開口し内部に前記ガスとは反応しない不活性液体が貯められる下容器と、前記不活性液体上に浮上支持されて前記下容器の上部開口を塞ぐ蓋容器とを有し、前記蓋容器と前記密閉容器とが連通され、前記蓋容器内に溜まるガスのガス圧及び前記不活性液体が与える浮力と、前記蓋容器の重力とがバランスして前記蓋容器が浮上支持されるものである洗浄装置。

IPC (1件)：