特許
J-GLOBAL ID：201103051044094654
基板検査方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三俣 弘文
公報種別：特許公告
出願番号（国際出願番号）：特願平1-040452
公開番号（公開出願番号）：特開平1-254803
出願日： 1989年02月22日
公開日（公表日）： 1989年10月11日
請求項（抜粋）：
【請求項1】平らな表面をレーザビームで走査し、この表面の法線に対して大角度をなして、この表面から散乱された光を受光し、しきい値以上の散乱光のパルスの受光を、かかるパルスの受光時の走査ビームの位置と比較して、前記表面の欠陥位置を定めるステップからなる平らな表面の欠陥検出方法において、第1の光ガイド群(21)により、前記表面から主として第1方向(Y)にのみ、散乱される第1の光を独立に受光し、第2の光ガイド群(22)により、前記表面から第1方向とほぼ直交する第2方向(X)にのみ散乱される第2の光を独立に受光し、しきい値以上のパルス状の第1光の受光時の走査ビーム(12)の位置を用いて、前記光パルスをもたらす欠陥の第1次元の大きさを決定し、しきい値以上のパルス状の第2光の受光時の走査ビーム(12)の位置を用いて、前記光パルスをもたらす欠陥の第2次元の大きさを決定することを特徴とする基板検査方法。
IPC (2件)：
G01B 11/30 C 9108-2F
, G01N 21/88 F 8304-2J
