特許

J-GLOBAL ID：201103051135806835

薄膜磁気ヘッドの製造方法

発明者： 池内 執一 ,  長友 浩之
出願人/特許権者： IPトレーディング・ジャパン株式会社
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-153164
公開番号（公開出願番号）：特開2000-339627
特許番号：特許第3513051号
出願日： 1999年06月01日
公開日（公表日）： 2000年12月08日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 以下の工程を有することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法、磁気抵抗効果素子を有する再生ヘッド周辺の平坦な面上に、下層アルミナを成膜する工程と、前記再生ヘッドの上に、誘導型記録ヘッドを形成する工程と、前記下層アルミナをアルカリ水溶液を用いてエッチングする工程と、前記再生ヘッド、誘導型記録ヘッドを覆う上層アルミナを、前記下層アルミナの上に積層する工程。

IPC (2件)：

G11B 5/31 ,  G11B 5/39

FI (3件)：

G11B 5/31 H ,  G11B 5/31 K ,  G11B 5/39