特許
J-GLOBAL ID:201103051360118344
セメント添加剤及びセメント組成物
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
特許業務法人 安富国際特許事務所
, 安富 康男
, 玉井 敬憲
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-133330
公開番号(公開出願番号):特開2000-319382
特許番号:特許第4502421号
出願日: 1999年05月13日
公開日(公表日): 2000年11月21日
請求項(抜粋):
【請求項1】 重合体(X)を主成分とするセメント添加剤であって、
該重合体(X)は、
下記一般式(1);
〔式中、R1及びR2は、同一若しくは異なって、水素原子又は炭素数1〜30の1価の炭化水素基を表し、R1とR2との炭素鎖の一部が結合していてもよい。R3は、水素、フェニル基、アルキルフェニル基、スルホン化フェニル基、炭素数1〜30のアルキル基、炭素数1〜30のアルケニル基、-OCOR4、-(CH2)aOR5、-O(R6O)bR7、-CNからなる群より選択される1価の有機基を表す。R4は、炭素数1〜30の1価の炭化水素基を表す。R5及びR7は、水素原子又は炭素数1〜30の1価の炭化水素基を表す。aは、-(CH2)-で表されるメチレン基の平均付加モル数を表し、1〜3の正の数である。R6は、炭素数2〜30のアルキレン基を表し、bは、-(R6O)-で表されるオキシアルキレン基の平均付加モル数を表し、1〜300の正の数である。Sは、重合体(X)中における繰り返し単位の存在量(モル比)を表す。〕で表される繰り返し単位(A)、
下記一般式(2);
〔式中、M1及びM2は、同一若しくは異なって、水素原子、金属原子、アンモニウム基又は有機アミン基を表す。Tは、重合体(X)中における繰り返し単位の存在量(モル比)を表す。〕で表される繰り返し単位(B)、
下記一般式(3);
〔式中、M3は、水素原子、金属原子、アンモニウム基又は有機アミン基を表す。R8は、炭素数1〜30の1価の炭化水素基を表す。RXは、同一又は異なって、炭素数2〜18のアルキレン基を表し、その主体はエチレン基である。nは、-(RXO)-で表されるオキシアルキレン基の平均付加モル数を表し、正の数である。E1は、重合体(X)中における繰り返し単位の存在量(モル比)を表す。〕で表される繰り返し単位(C)、並びに、
下記一般式(4);
〔式中、M4は、水素原子、金属原子、アンモニウム基又は有機アミン基を表す。R9は、炭素数1〜30の1価の炭化水素基を表す。mは、繰り返し単位中における平均数を表す。RYは、同一又は異なって、炭素数2〜18のアルキレン基を表し、その主体は、炭素数3以上のアルキレン基である。mは、-(RYO)-で表されるオキシアルキレン基の平均付加モル数を表し、正の数である。E2は、重合体(X)中における繰り返し単位の存在量(モル比)を表す。〕で表される繰り返し単位(D)
を有するものであり、
S、T及びE1は、0ではなく、
nは、110以上300以下であり、
該重合体(X)の重量平均分子量は、10000以上500000以下である
ことを特徴とするセメント添加剤。
IPC (5件):
C04B 24/26 ( 200 6.01)
, C04B 28/02 ( 200 6.01)
, C08G 65/04 ( 200 6.01)
, C08L 71/02 ( 200 6.01)
, C04B 103/32 ( 200 6.01)
FI (7件):
C04B 24/26 F
, C04B 24/26 E
, C04B 24/26 H
, C04B 28/02
, C08G 65/04
, C08L 71/02
, C04B 103:32
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