特許
J-GLOBAL ID:201103051455201443

改善された特性を有する沈降シリカ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 倉内 基弘 (外1名)
公報種別:特許公告
出願番号(国際出願番号):特願平1-046706
公開番号(公開出願番号):特開平1-256573
出願日: 1989年03月01日
公開日(公表日): 1989年10月13日
請求項(抜粋):
【請求項1】シロキサン組成物の製造用、特に熱加硫し得るエラストマー用の組成物の製造用の充填剤として特に使用することのできる沈降シリカであって、a)少なくとも90のY輝度を有すること、b)窒素流下で400°Cにおいて4時間処理した場合にそのY輝度の低下が5.5%以下であること、並びにc)400°Cにおいてオクタメチルシクロテトラシロキサン流で1時間30分処理した場合にそのY輝度の低下が5.5%以下であることを特徴とする前記沈降シリカ。
IPC (4件):
C01B 33/18 E 7202-4G ,  C08K 9/00 ,  C08L 83/04 LRX ,  C09C 1/30 PAP

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