特許
J-GLOBAL ID:201103051464220833

レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版及びその製造方法、並びに、レリーフ印刷版及びその製版方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 野口 恭弘 ,  深海 明子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-296115
公開番号(公開出願番号):特開2011-136430
出願日: 2009年12月25日
公開日(公表日): 2011年07月14日
要約:
【課題】膜の破断強度及び水性インキ転移性に優れるレリーフ印刷版を得ることができ、印刷版のレーザー彫刻時に発生する彫刻カスのリンス性及びレーザー彫刻における彫刻感度に優れるレーザー彫刻用樹脂組成物、前記レーザー彫刻用樹脂組成物を用いたレリーフ印刷版原版、それを用いたレリーフ印刷版の製版方法、及び、それにより得られたレリーフ印刷版を提供すること。【解決手段】(成分A)加水分解性シリル基及び/又はシラノール基を有する化合物と、(成分B)バインダーポリマーとして、ポリウレタンと、を含有することを特徴とするレーザー彫刻用樹脂組成物。【選択図】なし
請求項(抜粋):
(成分A)加水分解性シリル基及び/又はシラノール基を有する化合物と、 (成分B)バインダーポリマーとして、ポリウレタンと、を含有することを特徴とする レーザー彫刻用樹脂組成物。
IPC (2件):
B41N 1/12 ,  G03F 7/00
FI (2件):
B41N1/12 ,  G03F7/00 502
Fターム (20件):
2H096AA02 ,  2H096BA20 ,  2H096EA04 ,  2H096EA23 ,  2H096GA17 ,  2H096GA45 ,  2H114AA01 ,  2H114AA23 ,  2H114AA24 ,  2H114BA10 ,  2H114DA15 ,  2H114DA38 ,  2H114DA52 ,  2H114DA60 ,  2H114DA62 ,  2H114EA02 ,  2H114EA06 ,  2H114FA02 ,  2H114FA06 ,  2H114GA27
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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