特許

J-GLOBAL ID：201103051924982290

4,6-ジアミノレゾルシンの製造方法

発明者： 熊本 行宏 ,  伊藤 尚登 ,  水田 秀樹 ,  楠本 昌彦
出願人/特許権者： 三井化学株式会社
代理人 (1件)： 苗村 新一 (外1名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-213013
公開番号（公開出願番号）：特開2001-039935
特許番号：特許第3398342号
出願日： 1999年07月28日
公開日（公表日）： 2001年02月13日
請求項（抜粋）：

【請求項1】次の各工程からなる4,6-ジアミノレゾルシンの製造方法。(1)レゾルシンをスルホン化剤と接触させて2,4,6-トリスルホン酸レゾルシンを製造する第一工程、(2)2,4,6-トリスルホン酸レゾルシンをニトロ化剤と接触させて2-スルホン酸-4,6-ジニトロレゾルシンを製造する第二工程、(3)2-スルホン酸-4,6-ジニトロレゾルシンを加水分解して4,6-ジニトロレゾルシンを製造する第三工程、(4)4,6-ジニトロレゾルシンを還元して4,6-ジアミノレゾルシンを製造する第四工程。

IPC (5件)：

C07C 213/02 ,  C07C 215/80 ,  C07B 61/00 300 ,  C07C 201/14 ,  C07C 205/23

FI (5件)：

C07C 213/02 ,  C07C 215/80 ,  C07B 61/00 300 ,  C07C 201/14 ,  C07C 205/23