特許
J-GLOBAL ID:201103052873478784

フッ素化合物の濃縮方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石田 敬 (外4名)
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-136964
公開番号(公開出願番号):特開2002-013872
特許番号:特許第3481920号
出願日: 2001年05月08日
公開日(公表日): 2002年01月18日
請求項(抜粋):
【請求項1】 希釈されたガスを約-101°C(-150°F)以下の温度を有する低温液と直接接触させることにより当該希釈されたガスからその希釈されたガス中に第1の濃度で存在している1種以上のフッ素化合物を取り除き、且つ当該フッ素化合物を濃縮して、それにより当該フッ素化合物の少なくなった蒸気と、当該フッ素化合物を第1の濃度より高い第2の濃度に富ませた液を製造するフッ素化合物の濃縮方法。
IPC (4件):
F25J 3/06 ,  C01B 7/19 ,  C07C 17/383 ,  C07C 19/08
FI (4件):
F25J 3/06 ,  C01B 7/19 ,  C07C 17/383 ,  C07C 19/08

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