特許
J-GLOBAL ID：201103053224419708

高耐酸化性Si含浸複合材料およびその製造方法

発明者：
半澤 茂

半澤 茂 について

, 
中野 健治

中野 健治 について


出願人/特許権者：
日本碍子株式会社

日本碍子株式会社 について


代理人 (1件)： 渡邉 一平
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-059500
公開番号（公開出願番号）：特開2000-256064
特許番号：特許第4266056号
出願日： 1999年03月05日
公開日（公表日）： 2000年09月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】炭化珪素、金属珪素、実質的に炭素繊維からなる炭素、および0重量%〜10重量%の炭化ホウ素とから構成され、骨格部と、骨格部の周囲に形成されたマトリックスとからなる構造を有する高耐酸化性Si含浸複合材料であって、 炭化珪素の少なくとも50%はβ型で、 骨格部は、炭素繊維束を含み、少なくともその内部または表面の何れか一方にSi-SiC系材料相が形成されているヤーンを、特定の本数配列したヤーン配列体を、積層して構成されるヤーン集合体であって、三次元構造を有するC/Cコンポジットからなる骨格部炭素繊維束と、炭素繊維束内または炭素繊維束の周囲に形成された炭化珪素と金属珪素より構成されるSi-SiC系材料と、0〜10重量%の炭化ホウ素から形成されており、 マトリックスは、該骨格部を構成するヤーンとヤーンとの間に三次元的格子状に形成され、ヤーンの表面に沿って細長く延びた炭化珪素と金属珪素より構成されるSi-SiC系材料と、0重量%〜10重量%の炭化ホウ素により形成され、 前記マトリックスと前記骨格部とは一体的に形成されており、かつ、 前記複合材料は10%以下の気孔率を有することを特徴とする高耐酸化性Si含浸複合材料。
IPC (3件)：
C04B 35/565 ( 200 6.01) ,  C04B 35/80 ( 200 6.01) ,  F16C 33/12 ( 200 6.01)
FI (3件)：
C04B 35/56 101 L ,  C04B 35/80 B ,  F16C 33/12 B
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (8件)
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