特許
J-GLOBAL ID：201103053359223200
光学処理方法およびそれを用いた光学処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高梨 幸雄
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-053548
公開番号（公開出願番号）：特開2001-242376
特許番号：特許第4573938号
出願日： 2000年02月29日
公開日（公表日）： 2001年09月07日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 光学データが与えられた光学系に対して、射出側光線基本4元ベクトル
の展開を、入射側光線基本4元ベクトル
s:基準軸上の入射面と物体面との距離
t:基準軸上の入射面と入射瞳面との距離
Y:入射側の基準軸をx軸とし、入射面での偏向の前後の基準軸を含む基準面をxy平面とした座標系での物体面上の光線通過位置のy座標
Z:入射側の基準軸をx軸とし、入射面での偏向の前後の基準軸を含む基準面をxy平面とした座標系での物体面上の光線通過位置のz座標
Ry:入射側の基準軸をx軸とし、入射面での偏向の前後の基準軸を含む基準面をxy平面とした座標系での入射瞳面上の光線通過位置のy座標
Rz:入射側の基準軸をx軸とし、入射面での偏向の前後の基準軸を含む基準面をxy平面とした座標系での入射瞳面上の光線通過位置のz座標
N:入射側の空間の屈折率
を用いて、
Ii′=GijIj+Hij1j2Ij1Ij2+Mij1j2j3Ij1Ij2Ij3+・・・
と表し、前記射出側光線基本4元ベクトルの展開の各係数テンソルGij,Hij1j2,Mij1j2j3を用いて、
tGij=1Gim0Gmj
tHij1j2=1Gim0Hmj1j2+1Hil1l20Gl1j10Gl2j2
tMij1j2j3=1Gim0Mmj1j2j3+21Hil1l20Hl1j1j20Gl2j3
+1Mik1k2k30Gk1j10Gk2j20Gk3j3
添え字0:前要素までのトータルな系の係数テンソル
添え字1:現要素において発生する係数テンソル
添え字t:現要素まで含んだトータルな系の係数テンソル
なる演算を行うことにより、クロスターム効果を考慮した前記光学系の近軸量や収差量を求め、その結果を表示装置に表示またはプリンターにプリントアウトするまたは記録媒体に記録ことを特徴とする光学処理方法。
IPC (3件)：
G02B 13/00 ( 200 6.01)
, G02B 17/08 ( 200 6.01)
, G06F 17/50 ( 200 6.01)
G02B 13/00
, G02B 17/08 Z
, G06F 17/50 612 G
, G06F 17/50 680 A
