特許
J-GLOBAL ID:201103053374651951
載置台構造及び処理装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
浅井 章弘
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-146514
公開番号(公開出願番号):特開2011-222931
出願日: 2010年06月28日
公開日(公表日): 2011年11月04日
要約:
【課題】載置台に大きな熱応力が発生することを防止して破損を阻止し、更に載置台の裏面に被処理体の面内温度不均一性の原因となる不要な膜が付着することを防止することができる載置台構造を提供する。【解決手段】被処理体を載置するための載置台構造において、載置台本体の上に被処理体を載置するための熱拡散板を支持させると共に、両者の境界部分にガス拡散室を設けてなる載置台と、加熱手段と、上端部が載置台の下面に接続されると共にガス拡散室に連通されてパージガスを流す1又は複数の支柱管60と、載置台本体の側面と下面とを覆うようにして設けられた載置台カバー部材63と、支柱管の周囲を囲むと共に上端部が載置台カバー部材に連結されて、ガス拡散室から載置台本体と載置台カバー部材との間の隙間に流れたパージガスを下方へ案内してガス出口196から排出する支柱管カバー部材65とを備える。【選択図】図4
請求項(抜粋):
排気可能になされた処理容器内に設けられて処理すべき被処理体を載置するための載置台構造において、
板状の載置台本体の上に前記被処理体を載置するための熱拡散板を支持させると共に、前記載置台本体と前記熱拡散板との境界部分にガス拡散室を設けてなる載置台と、
前記載置台に設けられた加熱手段と、
前記載置台を支持するために前記処理容器の底部より起立させて設けられて上端部が前記載置台の下面に接続されると共に前記ガス拡散室に連通されてパージガスを流す1又は複数の支柱管と、
前記載置台本体の側面と下面とを覆うようにして設けられた載置台カバー部材と、
前記支柱管の周囲を囲むと共に上端部が前記載置台カバー部材に連結されて、前記ガス拡散室から前記載置台本体と前記載置台カバー部材との間の隙間に流れた前記パージガスを下方へ案内してガス出口から排出する支柱管カバー部材と、
を備えたことを特徴とする載置台構造。
IPC (2件):
H01L 21/683
, H01L 21/306
FI (2件):
H01L21/68 R
, H01L21/302 101G
Fターム (24件):
5F004AA01
, 5F004AA16
, 5F004BA06
, 5F004BB13
, 5F004BB25
, 5F004BB26
, 5F004BB28
, 5F004BB29
, 5F004BC01
, 5F031CA02
, 5F031HA03
, 5F031HA10
, 5F031HA16
, 5F031HA19
, 5F031HA33
, 5F031HA37
, 5F031JA01
, 5F031JA46
, 5F031MA28
, 5F031MA29
, 5F031MA30
, 5F031MA32
, 5F031NA04
, 5F031PA11
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