特許
J-GLOBAL ID:201103053379136184
誘導結合プラズマを発生させるための高周波電源
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
村松 貞男
, 橋本 良郎
, 白根 俊郎
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-509143
特許番号:特許第4672941号
出願日: 2000年07月12日
請求項(抜粋):
【請求項1】 処理チャンバ内でプラズマを維持させるためにDC電力をRF電磁界に変換させるためのシステムであって、
2つの端部を有し、処理チャンバを巻回するように構成され、およびRF電力をプラズマにカップリングさせるように構成されたコイルと、
DC電源とRF電力出力ターミナルとを有するフリーランニング発振器を有するRF電力発生器とを具備し、前記RF電力出力ターミナルは、前記コイルを含む負荷インピーダンスに接続されており、前記RF電力発生器は、プラズマにカップリングされるRF電力を発生させるために前記コイルにRF電流を供給するように構成され、および、配置されており、また、
前記フリーランニング発振器は、カソード、プレート並びにグリッドを備えた真空管と、このグリッドに接続されたグリッドリーク回路と、前記真空管にカップリングされたフイードバック回路と、前記カソードを加熱するように構成され、および、配置されているDC電力回路とを有し、そして、
前記コイルの少なくとも一部は、前記フイードバック回路の一部を構成するように接続されており、
前記フイードバック回路の一部を形成する前記コイルの一部は、前記コイルの前記端部の少なくとも1つから離れており、
前記RF電力発生器は、前記真空管にカップリングされ、並びに、前記プラズマにカップリングされる前記RF電力を変えるように構成され、および、配置されている制御回路を更に備え、
前記制御回路は、前記真空管のグリッドに制御信号を供給するように構成され、および、配置されている制御信号源を備えている、システム。
IPC (4件):
H01L 21/3065 ( 200 6.01)
, C23C 16/507 ( 200 6.01)
, H01L 21/205 ( 200 6.01)
, H05H 1/46 ( 200 6.01)
FI (4件):
H01L 21/302 101 C
, C23C 16/507
, H01L 21/205
, H05H 1/46 R
引用特許:
出願人引用 (2件)
-
誘導結合プラズマ発生器
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-115169
出願人:ザ・パーキン・エルマー・コーポレイション
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特開昭63-304598
審査官引用 (2件)
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誘導結合プラズマ発生器
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-115169
出願人:ザ・パーキン・エルマー・コーポレイション
-
特開昭63-304598
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