特許
J-GLOBAL ID：201103054116912321

基板処理装置

発明者：
南田 純也

南田 純也 について

, 
上田 一成

上田 一成 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 内野 美洋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-180538
公開番号（公開出願番号）：特開2011-119650
出願日： 2010年08月11日
公開日（公表日）： 2011年06月16日
要約：
【課題】基板処理装置の製造コストや消費エネルギーを低減させること。【解決手段】本発明では、キャリア(3)に収容された基板(2)を受渡す基板搬出入部(基板受渡室(12))と、前記基板搬出入部と基板搬入出口(37(39))を介して連通する基板搬送室(14(25))と、前記基板搬送室(14(25))に沿って配置された複数の基板処理室(15〜24(26〜35))と、前記基板搬送室(14(25))の内部に収容し、前記基板搬出入部と前記基板処理室(15〜24(26〜35))との間で前記基板(2)を搬送するための基板搬送装置(36(38))と、前記基板搬送室(14(25))に沿って清浄空気を流すための清浄空気流動手段(41(42))とを有することにした。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
キャリアに収容された基板を受渡す基板搬出入部と、 前記基板搬出入部と基板搬入出口を介して連通する基板搬送室と、 前記基板搬送室に沿って配置された複数の基板処理室と、 前記基板搬送室の内部に収容し、前記基板搬出入部と前記基板処理室との間で前記基板を搬送するための基板搬送装置と、 前記基板搬送室に沿って清浄空気を流すための清浄空気流動手段と、 を有することを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/67 ,  H01L 21/677
FI (2件)：
H01L21/68 Z ,  H01L21/68 A
Fターム (17件)：
5F031CA02 ,  5F031DA01 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA02 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031MA02 ,  5F031MA03 ,  5F031MA07 ,  5F031MA23 ,  5F031MA32 ,  5F031NA02
引用特許：
出願人引用 (3件)
  • 処理システム
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-188551   出願人：東京エレクトロン株式会社
  • 特開平4-085812
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-287237   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
審査官引用 (2件)
  • 処理システム
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-188551   出願人：東京エレクトロン株式会社
  • 特開平4-085812

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