特許
J-GLOBAL ID:201103054409516048

シールド掘進機の立坑到達用シール方法およびその装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 特許業務法人あーく特許事務所 ,  難波 国英
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-404130
公開番号(公開出願番号):特開2002-180780
特許番号:特許第4486250号
出願日: 2000年12月11日
公開日(公表日): 2002年06月26日
請求項(抜粋):
【請求項1】 到達用立坑壁の内周面に密閉されたエントランス室を形成する工程と、 上記エントランス室に充填材である砂を充填する工程と、 トンネルを構築し終えたシールド掘進機を上記立坑壁の掘削で上記エントランス室内に進入させる工程と、 上記シールド掘進機でエントランス室内の充填材を掘削しながら前記エントランス室内に洗浄液を噴出させる工程と、 上記シールド掘進機で掘削された前記エントランス室内の残余の充填材である砂と前記エントランス室内に噴出された洗浄液とを該エントランス室内に残留させるとともに、上記残余の充填材である砂と洗浄液の混合された余剰の泥水を前記エントランス室内の下方から外部に排出して立坑の内部に放出する工程と、 上記エントランス室の内周面に設置された拡縮シール部材を膨出させて上記トンネル掘進機の外周面に圧接させる工程と、 上記拡縮シール部材の背面側における上記トンネル掘進機の外周面にモルタルなどのシール材を注入して上記立坑壁の開口およびエントランス室の内部空間を密閉する工程とを備え、 出水状態にある地中にトンネルを構築し終えたシールド掘進機を到達用立坑に到達させて止水することを特徴とするシールド掘進機の立坑到達用シール方法。
IPC (1件):
E21D 9/06 ( 200 6.01)
FI (1件):
E21D 9/06 301 E
引用特許:
出願人引用 (7件)
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