特許

J-GLOBAL ID：201103054449303020

感放射線組成物及びパタン形成方法及び半導体装置の製造方法

発明者： 横山 義之 ,  服部 孝司
出願人/特許権者： 株式会社ルネサステクノロジ
代理人 (2件)： 秋田 収喜 ,  作田 康夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-393107
公開番号（公開出願番号）：特開2003-195502
特許番号：特許第3822101号
出願日： 2001年12月26日
公開日（公表日）： 2003年07月09日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 γ-ヒドロキシカルボン酸をエステル部に持つアクリル酸エステルの重合体と、酸発生剤とを含有することを特徴とする感放射線組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/038 ( 200 6.01) ,  G03F 7/039 ( 200 6.01) ,  G03F 7/20 ( 200 6.01) ,  G03F 7/40 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)

FI (7件)：

G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/039 501 ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/40 521 ,  H01L 21/30 502 R