特許

J-GLOBAL ID：201103054647215501

フォトレジスト組成物

発明者： 畑 光宏 ,  増山 達郎
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (4件)： 植木 久一 ,  植木 久彦 ,  菅河 忠志 ,  伊藤 浩彰
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-174764
公開番号（公開出願番号）：特開2011-059672
出願日： 2010年08月03日
公開日（公表日）： 2011年03月24日
要約：

【課題】優れた露光裕度を有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】式(C1)で表される化合物をレジスト組成物中で使用すれば、広い露光裕度を達成できる[式(C1)中、Rc1は、式(1)で表される基であり;Rc3及びRc4は、それぞれ独立に、水素原子又は脂肪族炭化水素基を表し;Rc5は、2価の有機基を表す。Rc2は、置換基を有していてもよいC7-20アラルキル基を表す。]。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

樹脂、酸発生剤、及び式(C1)で表される化合物を含有することを特徴とするフォトレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  C07D 207/16 ,  C07D 295/14

FI (4件)：

G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  C07D207/16 ,  C07D295/14 Z

Fターム (28件)：

2H125AF17P ,  2H125AF38P ,  2H125AF59P ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AL03 ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125AN82P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4C069AA15 ,  4C069BD03 ,  4C069CC05 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB81