CVD装置

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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-334721
公開番号（公開出願番号）：特開2001-152340
特許番号：特許第3842501号
出願日： 1999年11月25日
公開日（公表日）： 2001年06月05日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基体を加熱するための加熱室と、前記基体表面に所定の薄膜を成膜するための成膜室とを、断熱壁を介して隣接して設置するとともに、前記基体を支持治具に固定し、該支持治具を30乃至1000rpmの速度で回転させることにより、前記基体を前記加熱室と前記成膜室との間で交互に、かつ連続的に移動させるための基体駆動手段とを具備したことを特徴とするCVD装置。

IPC (1件)：