特許
J-GLOBAL ID:201103055244855213
カムシャフトの低歪高周波焼入方法とその装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
奥山 尚一
, 有原 幸一
, 松島 鉄男
, 秋山 暢利
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-288248
公開番号(公開出願番号):特開2002-097522
特許番号:特許第3676215号
出願日: 2000年09月22日
公開日(公表日): 2002年04月02日
請求項(抜粋):
【請求項1】 複数個のカム部を有するカムブロックを、ジャーナル部を間に介して複数個配列して成るカムシャフトを高周波焼入するに際し、 a)前記カムブロックごとに、前記複数個のカム部にそれぞれ対応して配置される複数の環状加熱コイルであって、前記複数のカムブロックを通してほぼ直線上に配置される前記複数の環状加熱コイルの、コイル環内を貫通して前記カムシャフトを配置する搬入工程と、 b)前記カムシャフトを配置後、前記カムシャフトを、その中心軸を中心にある一定回転で回転駆動させる回転駆動工程と、 c)前記カムブロックごとに配置される前記複数の環状加熱コイルを直列に接続して成る環状加熱コイルブロックを前記カムブロックごとに構成すると共に、これら複数の環状加熱コイルブロックを1台の高周波電源装置に並列に接続し、前記1台の高周波電源装置から前記複数の環状加熱コイルブロックに高周波電流を供給して、前記カムシャフトの前記カムブロックの部位に応じて前記環状加熱コイルブロックごとに個々に調整された高周波電流を前記直列接続された環状加熱コイルに供給することにより、全カム部を、ある一定時間、同時に誘導加熱する加熱工程と、 d)前記加熱工程終了後、加熱された前記カムシャフト全体を、ある一定時間同時に空冷して、加熱温度を均一にする空冷工程と、 e)前記空冷後、直ちに前記カムシャフトの全カム部を、ある一定時間、同時に冷却して焼入処理する冷却焼入工程と、 f)前記焼入処理された前記カムシャフトを、外部に搬出する搬出工程と、を順次行うことを特徴とするカムシャフトの低歪高周波焼入方法。
IPC (7件):
C21D 9/30
, C21D 1/10
, C21D 1/667
, F01L 1/04
, F16H 53/02
, H05B 6/10
, H05B 6/44
FI (8件):
C21D 9/30 A
, C21D 9/30 B
, C21D 1/10 U
, C21D 1/667
, F01L 1/04 A
, F16H 53/02 Z
, H05B 6/10 331
, H05B 6/44
引用特許:
出願人引用 (5件)
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特開平3-031414
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特開平2-197517
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圧延用ロールの焼入れ方法及び焼入れ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-058354
出願人:株式会社日立製作所
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特開昭56-081624
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特公平6-096747
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審査官引用 (9件)
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特開平3-031414
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特開平3-031414
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特開平2-197517
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特開平2-197517
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圧延用ロールの焼入れ方法及び焼入れ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-058354
出願人:株式会社日立製作所
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特開昭56-081624
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特開昭56-081624
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特公平6-096747
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特公平6-096747
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