特許
J-GLOBAL ID:201103055551771442

ラクトンの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鍬田 充生
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-130073
公開番号(公開出願番号):特開2001-302653
特許番号:特許第4598917号
出願日: 2000年04月28日
公開日(公表日): 2001年10月31日
請求項(抜粋):
【請求項1】 下記式(1)で表されるエポキシカルボン酸又はその誘導体1モルに対して、下記式(2)で表される化合物が1〜15当量となる割合で用いて両者を反応させ、下記式(3)で表されるラクトンを製造する方法。 (式中、AはC1-3アルキレン基を示し、Bは水素原子又はアシル基を示す。R1は、水素原子、飽和又は不飽和の脂肪族炭化水素基を示す)
IPC (3件):
C07D 307/33 ( 200 6.01) ,  C07D 309/30 ( 200 6.01) ,  C07D 313/04 ( 200 6.01)
FI (3件):
C07D 307/32 Q ,  C07D 309/30 D ,  C07D 313/04
引用特許:
審査官引用 (1件)
引用文献:
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