基板処理装置

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-177779
公開番号（公開出願番号）：特開2011-035051
出願日： 2009年07月30日
公開日（公表日）： 2011年02月17日
要約：

【課題】基板を回転させながら所定の処理を施す基板処理装置において、基板を支持部材に均一に押圧させることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】スピンベース30の周縁部には、立設された支持ピン310が複数個設けられている。そして、支持ピン310に基板Wが略水平状態で支持されている。基板Wの表面Wfに遮断部材50を近接して対向配置された状態で、ガス吐出口502から所定の角度で基板Wにガスを吐出する。これにより、基板Wはその上面側に所定の角度で供給されるガスによって、支持ピン310に押圧されて確実にスピンベース30に保持される。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

基板を鉛直軸周りに略水平姿勢で回転させながら基板を保持する基板保持部材と、前記基板保持部材を回転させる回転手段と、前記基板保持部材の周縁部に突設され、前記基板の下面に当接して前記基板を下方から支持するための複数の支持部材と、基板を前記支持部材に押圧させて前記基板保持部材に保持させる押圧手段と、を備え、前記押圧手段は、前記基板の上面と対向する基板対向面を有する対向部材と、前記基板対向面に気体供給口を備え、前記基板に気体を導くための気体供給路と、前記気体供給路を介して、前記気体供給口から前記基板に気体を供給するための気体供給部とを有し、前記気体供給口が前記基板保持部材の回転中心から外方に離れて位置し、前記気体供給路は、前記気体供給口から前記基板保持部材の回転中心から外方に行くにしたがい前記基板保持部材から離れるように傾斜して形成され、前記気体供給口から吐出される気体が前記気体供給口より前記基板保持部材の回転中心に向かって吐出されることを特徴とする基板処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/306 , H01L 21/304 , G02F 1/13 , G11B 7/26 , H01L 21/027

FI (6件)：

H01L21/306 J , H01L21/304 643A , G02F1/13 101 , G11B7/26 531 , H01L21/30 569C , H01L21/304 648Z

Fターム (49件)：

2H088FA21 , 2H088FA30 , 2H088HA01 , 2H088MA16 , 5D121AA04 , 5D121EE22 , 5D121EE24 , 5D121EE28 , 5D121EE29 , 5D121GG10 , 5D121GG11 , 5D121GG18 , 5D121GG20 , 5D121JJ02 , 5D121JJ09 , 5F043AA22 , 5F043BB15 , 5F043EE07 , 5F043EE08 , 5F043EE35 , 5F046LA01 , 5F046LB10 , 5F157AA12 , 5F157AA15 , 5F157AA46 , 5F157AA63 , 5F157AA64 , 5F157AA93 , 5F157AB02 , 5F157AB14 , 5F157AB33 , 5F157AB42 , 5F157AB90 , 5F157AC04 , 5F157BB22 , 5F157CB03 , 5F157CB13 , 5F157CB15 , 5F157CE03 , 5F157CE10 , 5F157CE21 , 5F157CE33 , 5F157CF32 , 5F157CF72 , 5F157DB02 , 5F157DC00 , 5F157DC81 , 5F157DC83 , 5F157DC84

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