特許

J-GLOBAL ID：201103055616465760

浄化装置及び浄化方法

発明者： 辻 敦志 ,  中川 尚治 ,  田中 喜典 ,  今成 記子 ,  広田 伸也 ,  前川 哲也
出願人/特許権者： パナソニック電工株式会社
代理人 (1件)： 西川 惠清
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-169412
公開番号（公開出願番号）：特開2011-020097
出願日： 2009年07月17日
公開日（公表日）： 2011年02月03日
要約：

【課題】浄化効率を高くすることができる浄化装置を提供する。【解決手段】液体Lqに溶解させたオゾンで不純物を処理する浄化装置に関する。オゾンを含有する気体がナノサイズの気泡Bとなって液体Lqに混合された気液混合液を生成する気液混合液生成部Sと、気液混合液生成部Sによって生成された気液混合液の気泡Bを崩壊させてオゾンを液体Lqに溶解するオゾン溶解部Mとを具備する。上記気液混合液生成部Sは、気液混合液に含有されるオゾンの濃度が液体Lqの飽和溶解濃度以上となるように、オゾンを含有する気体を液体Lqに加圧して供給する加圧部1を備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

オゾンを含有する気体がナノサイズの気泡となって不純物含有液に混合された気液混合液を生成する気液混合液生成部と、気液混合液生成部によって生成された気液混合液の気泡を崩壊させてオゾンを不純物含有液に溶解するオゾン溶解部とを具備し、上記気液混合液生成部は、気液混合液に含有されている気体の濃度が不純物含有液の液体の飽和溶解濃度以上となるように、オゾンを含有する気体を不純物含有液に加圧して供給する加圧部を備えて成ることを特徴とする浄化装置。

IPC (6件)：

C02F 1/78 ,  B01J 19/00 ,  B01J 19/10 ,  B01J 19/12 ,  B01F 1/00 ,  B01F 3/04

FI (6件)：

C02F1/78 ,  B01J19/00 B ,  B01J19/10 ,  B01J19/12 A ,  B01F1/00 A ,  B01F3/04 A

Fターム (37件)：

4D050AA12 ,  4D050AB11 ,  4D050AB52 ,  4D050BB02 ,  4D050BC01 ,  4D050BC10 ,  4D050BD03 ,  4D050BD04 ,  4D050BD06 ,  4G035AA01 ,  4G035AB05 ,  4G035AC01 ,  4G035AC22 ,  4G035AC33 ,  4G035AE05 ,  4G075AA03 ,  4G075AA13 ,  4G075AA37 ,  4G075BA06 ,  4G075BB03 ,  4G075BB05 ,  4G075BD07 ,  4G075BD09 ,  4G075BD13 ,  4G075BD27 ,  4G075CA02 ,  4G075CA05 ,  4G075CA23 ,  4G075CA26 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EA05 ,  4G075EB01 ,  4G075EC04 ,  4G075EC11 ,  4G075ED01 ,  4G075ED15