特許
J-GLOBAL ID：201103055665038010
2次イオン質量分析装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
原 謙三
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-025083
公開番号（公開出願番号）：特開2000-223058
特許番号：特許第3462107号
出願日： 1999年02月02日
公開日（公表日）： 2000年08月11日
請求項（抜粋）：
【請求項1】収束した1次イオンビームを走査電極によって測定対象の試料表面上で走査し、前記試料表面から放出された2次イオンを、引出電極によって引出し、質量分析計によって質量分析し、所望とする種類の2次イオンの量を測定するようにした2次イオン質量分析装置において、前記引出電極と前記質量分析計との間に介在され、前記1次イオンビームの走査領域内で、前記引出電極によって引出された2次イオンのうち、前記1次イオンビームが照射されている領域からの2次イオンを前記走査に追従して前記質量分析計に導く偏向電極と、前記2次イオンを所定範囲に制限して前記質量分析計に入射させるアパーチャと、少なくとも前記2次イオンの走査領域全面にエネルギ線を照射または前記試料を加熱して試料表面への妨害粒子の付着を防止する付着防止手段とを含み、前記偏向電極が前記2次イオンを前記アパーチャに収束させることによって、2次イオン検出領域は、前記1次イオンビームが照射されている領域を常に含んだ状態で走査されることを特徴とする2次イオン質量分析装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01J 37/252 B
, H01J 49/04
