現像剤担持体に印加する交流重畳バイアスの周波数設定方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：阿部龍吉 , 蛭川昌信 , 内田亘彦 , 菅井英雄 , 青木健二 , 韮澤弘 , 米澤明
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-215260
公開番号（公開出願番号）：特開2002-031920
特許番号：特許第3856084号
出願日： 2000年07月17日
公開日（公表日）： 2002年01月31日
請求項（抜粋）：

【請求項1】接触現像装置を用い層形成部材が現像剤担持体に当接して現像剤層の層厚を規制し潜像担持体に形成された静電潜像を現像し画像を形成する画像形成装置において、ゴム硬度55〜80度のウレタンゴムからなり体積抵抗率が109 Ωcm以下の半導電性ゴムチップを前記層形成部材の先端に付設して前記現像剤担持体に当接させ前記層形成部材を電気的にフロートにすることにより前記半導電性ゴムチップを介して前記層形成部材を前記現像剤担持体と同電位に設定し、前記当接部で現像剤担持体送り方向に前記現像剤がすり抜ける電位と遮断される電位で変動する交流重畳バイアスを前記現像剤担持体に印加して、前記交流重畳バイアスの周波数による周期で前記現像剤担持体と前記層形成部材を電位変動させ、前記現像剤担持体上に現像剤のライン状凹凸搬送面を形成する現像剤担持体の交流重畳バイアスの周波数設定方法であって、前記交流重畳バイアスの周波数として、機械的に副走査方向に発生する横ムラの周波数に対し整数倍及び整数分の1倍の周波数以外の周波数を設定することを特徴とする現像剤担持体の交流重畳バイアスの周波数設定方法。

IPC (3件)：

G03G 15/06 ( 200 6.01) , G03G 15/00 ( 200 6.01) , G03G 15/08 ( 200 6.01)

FI (3件)：

G03G 15/06 101 , G03G 15/00 303 , G03G 15/08 504 B

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開平4-066973
特開平4-066973
現像装置及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-013190 出願人：松下電器産業株式会社

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