特許

J-GLOBAL ID：201103056080859430

露光方法及び露光装置

発明者： 川島 美代子 ,  斉藤 謙治 ,  杉田 充朗 ,  鈴木 章義 ,  岩崎 裕一
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 西山 恵三 (外2名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-050600
公開番号（公開出願番号）：特開2000-150366
特許番号：特許第3101614号
出願日： 1999年02月26日
公開日（公表日）： 2000年05月30日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 レジストにパターンに関する露光を行なう露光方法において、2光束干渉露光により第1の露光量分布を与える第1段階と、前記パターンと相似のパターンが形成されたマスクを用いた露光により露光量が0ではないが小さい部分と露光量が大きい部分とを有する第2の露光量分布を与える第2段階とを有し、前記第1の露光量分布の一部分と前記第2の露光量分布の前記露光量が0ではないが小さい部分を重ねることで前記パターンの一部分に関する露光が行なわれ、前記第1の露光量分布の他の部分と重なる前記第2の露光量分布の前記露光量が大きい部分で前記パターンの他の部分に関する露光が行なわれることを特徴とする露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 502 A ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 514 A