特許

J-GLOBAL ID：201103056128320562

光学装置、光源装置、レーザ加工装置、回折光学素子、光ピックアップ、光ディスク装置及びレーザ装置

発明者： 森 貞雄
出願人/特許権者： 独立行政法人国立高等専門学校機構
代理人 (5件)： 木村 満 ,  末次 渉 ,  鶴 寛 ,  毛受 隆典 ,  末富 孝典
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-033013
公開番号（公開出願番号）：特開2011-170052
出願日： 2010年02月17日
公開日（公表日）： 2011年09月01日
要約：

【課題】サイドローブが、さらに低減された多重ビームを生成する。【解決手段】多重ビーム生成手段9は、入射するレーザ平行光束に基づくレーザ光束を所定の収束角で光軸上に収束させることにより生成されるベッセルビームを、異なる収束角でそれぞれ生成するとともに、生成された収束角毎のベッセルビームを、それぞれのサイドローブが互いに打ち消し合うように重ね合わせることにより、多重ビームを生成する。ビーム制限手段8は、サイドローブの発生に寄与するレーザ平行光束又は多重ビームの通過を制限する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

入射するレーザ平行光束に基づくレーザ光束を所定の収束角で光軸上に収束させることにより生成されるベッセルビームを、異なる前記収束角でそれぞれ生成するとともに、生成された前記収束角毎の前記ベッセルビームを、それぞれのサイドローブが互いに打ち消し合うように重ね合わせることにより、多重ビームを生成する多重ビーム生成手段と、 前記サイドローブの発生に寄与する前記レーザ平行光束又は前記多重ビームの通過を制限するビーム制限手段と、 を備える光学装置。

IPC (8件)：

G02B 27/09 ,  G11B 7/135 ,  G11B 7/125 ,  G02B 27/58 ,  B23K 26/073 ,  B23K 26/06 ,  G02B 3/02 ,  G02B 3/08

FI (8件)：

G02B27/00 E ,  G11B7/135 Z ,  G11B7/125 B ,  G02B27/58 ,  B23K26/073 ,  B23K26/06 Z ,  G02B3/02 ,  G02B3/08

Fターム (16件)：

2H249AA03 ,  2H249AA13 ,  2H249AA55 ,  2H249AA57 ,  2H249AA63 ,  2H249AA64 ,  4E068CD05 ,  4E068CD08 ,  5D789AA22 ,  5D789BA01 ,  5D789EB02 ,  5D789EB11 ,  5D789JA02 ,  5D789JA12 ,  5D789JA22 ,  5D789JA32