特許
J-GLOBAL ID：201103056447193670
成膜装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 忠
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-150574
公開番号（公開出願番号）：特開平3-017266
特許番号：特許第2710988号
出願日： 1989年06月15日
公開日（公表日）： 1991年01月25日
請求項（抜粋）：
【請求項1】チャンバー内にターゲットを複数個装着するイオンビームスパッタ成膜装置において、各々のターゲット周辺近傍にアパーチャーが設けられ、該アパーチャーの少なくとも表面が、各々対応するターゲットを構成する元素の少なくとも1つを含み、該ターゲット材料とは異なる材料であって該ターゲット材料よりもスパッタリング率が小さい材料から構成されており、かつ、該対応するターゲットと共に各々のアパーチャーを駆動させる連動機能を備えたことを特徴とする成膜装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
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