特許
J-GLOBAL ID:201103056471351392

有機ケイ素ジスルファンの高い割合を含有する有機ケイ素オリゴスルファン混合物の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 矢野 敏雄 ,  山崎 利臣 ,  久野 琢也 ,  アインゼル・フェリックス=ラインハルト ,  ラインハルト・アインゼル
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-124814
公開番号(公開出願番号):特開2000-044582
特許番号:特許第4488450号
出願日: 1999年04月30日
公開日(公表日): 2000年02月15日
請求項(抜粋):
【請求項1】 一般式: Z-Alk-Sx-Alk-Z (I) [式中、 Zは、基: であり、その際、R1は、1〜6個の炭素原子を有する直鎖状または分枝鎖状のアルキル基、5〜8個の炭素原子を有するシクロアルキル基、メチル、エチルまたは塩素で置換されていてもよいベンジル基またはフェニル基であり、かつ R2は、1〜6個の炭素原子を有する直鎖状または分枝鎖状の炭素鎖を有するアルコキシ基、5〜8個の炭素原子を有するシクロアルコキシ基、フェノキシ基またはベンジルオキシ基であり、その際、いずれの場合でもR1およびR2が、同一または異なった意味を有していてもよく、 Alkは、1〜10個の炭素原子を有する2価の直鎖状または分枝鎖状の飽和炭化水素基、または基: であり、 その際、n=1〜4であり、かつx=1.5〜3.0である]のジスルファンの高い割合を含有する有機ケイ素オリゴスルファン混合物を2工程の反応で製造するための方法において、 1.微細に分散させたナトリウムの懸濁液を、不活性有機溶剤中、98°Cを上まわる温度で不活性ガス下に、製造するべきNa2Sxの化学量論に相応する量の硫黄と反応させ、かつ生じたNa2Sxを濾別し、場合により洗浄し、かつ乾燥させ、かつ 2.このNa2Sxを一部または完全に不活性有機溶剤中に溶解させるか、または懸濁させ、かつ一般式(II): Z-Alk-Hal (II) [式中、ZおよびAlkは、前記のものを表し、かつHalは、塩素原子または臭素原子を表す]の化合物と反応させ、かつ所望のオルガノスルファン混合物を単離することを特徴とする、ジスルファンの高い割合を含有する有機ケイ素オリゴスルファン混合物の製造方法。
IPC (1件):
C07F 7/18 ( 200 6.01)
FI (1件):
C07F 7/18 W
引用特許:
出願人引用 (4件)
  • 特開昭48-029726
  • 特開平4-144904
  • 特開昭61-091006
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審査官引用 (4件)
  • 特開昭48-029726
  • 特開平4-144904
  • 特開昭61-091006
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