特許

J-GLOBAL ID：201103057070794280

ブロックコポリマーの自己組織化促進方法及びそれを用いたブロックコポリマーの自己組織化パターン形成方法

発明者： 遠藤 政孝 ,  笹子 勝
出願人/特許権者： パナソニック株式会社
代理人 (19件)： 前田 弘 ,  竹内 宏 ,  嶋田 高久 ,  竹内 祐二 ,  今江 克実 ,  二宮 克也 ,  原田 智雄 ,  井関 勝守 ,  関 啓 ,  杉浦 靖也 ,  河部 大輔 ,  長谷川 雅典 ,  岩下 嗣也 ,  福本 康二 ,  前田 亮 ,  間脇 八蔵 ,  松永 裕吉 ,  川北 憲司 ,  岡澤 祥平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-289550
公開番号（公開出願番号）：特開2011-078978
出願日： 2010年12月27日
公開日（公表日）： 2011年04月21日
要約：

【課題】ブロックコポリマーの自己組織化によるパターン形成のスループットを向上できるようにする。【解決手段】基板の上に、ブロックコポリマー膜303を形成する。続いて、ブロックコポリマー膜303の上に、水溶性ポリマー膜304を形成する。その後、ブロックコポリマー膜303膜と水溶性ポリマー膜304とをアニーリングする。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

基板の上に、ブロックコポリマーからなる第1の膜を形成する工程と、 前記第1の膜の上に、水溶性ポリマーからなる第2の膜を形成する工程と、 前記第1の膜と前記第2の膜とをアニーリングする工程とを備えていることを特徴とするブロックコポリマーの自己組織化促進方法。

IPC (5件)：

B05D 7/24 ,  C08L 53/00 ,  C08L 101/00 ,  G03F 7/40 ,  B05D 1/36

FI (5件)：

B05D7/24 301Z ,  C08L53/00 ,  C08L101/00 ,  G03F7/40 511 ,  B05D1/36 Z

Fターム (25件)：

2H096AA25 ,  2H096BA01 ,  2H096EA06 ,  2H096HA05 ,  4D075AB24 ,  4D075AE03 ,  4D075BB29Z ,  4D075BB66X ,  4D075BB66Y ,  4D075CA36 ,  4D075CA37 ,  4D075DA06 ,  4D075DC22 ,  4D075EA06 ,  4D075EB19 ,  4D075EB22 ,  4D075EB37 ,  4D075EB44 ,  4D075EB49 ,  4J002BC10X ,  4J002BE02X ,  4J002BG01X ,  4J002BJ00X ,  4J002BP03W ,  4J002GQ00

引用特許：

審査官引用 (2件)

• パターン形成方法及びモールド
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-211745   出願人：日本電信電話株式会社
• 発光素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-325301   出願人：株式会社東芝