特許

J-GLOBAL ID：201103057176698654

イオンビーム照射装置

発明者： 井内 裕 ,  土肥 正二郎 ,  立道 潤一
出願人/特許権者： 日新イオン機器株式会社
代理人 (1件)： 山本 恵二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-059163
公開番号（公開出願番号）：特開2011-192582
出願日： 2010年03月16日
公開日（公表日）： 2011年09月29日
要約：

【課題】 基板上の分割帯を利用する装置であって、基板駆動に大掛かりな装置を必要とせず、しかもスループットを向上させることができるイオンビーム照射装置を提供する。【解決手段】 このイオンビーム照射装置は、互いに直列に接続された処理室10a、10bと、1枚以上の基板2をその分割帯82に平行なx方向に沿って搬送する基板搬送装置と、各処理室10a、10bに、y方向に長いリボン状のイオンビーム54a、54bをそれぞれ供給してそれらを各基板2のy方向の端部から分割帯82にかけての領域に照射するイオンビーム供給装置50a、50bとを備えている。更に、イオンビーム54aの、分割帯82に位置する端部を整形するビーム整形機構70aと、イオンビーム54bの、分割帯82に位置する端部を整形するビーム整形機構70bとを備えている。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基板であって、その表面に平行な平面内で互いに直交する2方向をx方向およびy方向とすると、x方向に平行な分割帯を有しており、かつ所定の処理パターンの繰り返しの単位であるセルが、当該基板のy方向の一端と前記分割帯との間および前記分割帯と当該基板のy方向の他端との間に形成されている基板に、イオンビームを照射するイオンビーム照射装置であって、 前記基板にイオンビーム照射を行うための部屋であって互いに直列に接続された第1および第2の処理室と、 1枚以上の前記基板を、少なくとも前記第1の処理室から前記第2の処理室にかけて、前記x方向に沿って搬送する基板搬送装置と、 前記第1の処理室に、前記y方向に沿って長手方向の寸法を有するリボン状の第1のイオンビームを供給して当該第1のイオンビームを、前記各基板の前記y方向の一端から前記分割帯にかけての領域に照射する第1のイオンビーム供給装置と、 前記第2の処理室に、前記y方向に沿って長手方向の寸法を有するリボン状の第2のイオンビームを供給して当該第2のイオンビームを、前記各基板の前記y方向の他端から前記分割帯にかけての領域に照射する第2のイオンビーム供給装置と、 前記第1のイオンビームの、前記各基板の前記分割帯に位置する端部を整形する第1のビーム整形手段と、 前記第2のイオンビームの、前記各基板の前記分割帯に位置する端部を整形する第2のビーム整形手段とを備えていることを特徴とするイオンビーム照射装置。

IPC (3件)：

H01J 37/317 ,  H01J 37/36 ,  H01J 37/20

FI (4件)：

H01J37/317 Z ,  H01J37/317 C ,  H01J37/36 ,  H01J37/20 Z

Fターム (4件)：

5C001CC07 ,  5C034CC12 ,  5C034CC19 ,  5C034CD10