特許
J-GLOBAL ID:201103057208969817
インプリント方法およびインプリント装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件):
金山 聡
, 深町 圭子
, 伊藤 英生
, 藤枡 裕実
, 後藤 直樹
, 伊藤 裕介
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-041607
公開番号(公開出願番号):特開2011-181548
出願日: 2010年02月26日
公開日(公表日): 2011年09月15日
要約:
【課題】モールドと樹脂との離型性に優れ、樹脂によるパターン欠陥を低減させ、安価に高精度パターンを形成するインプリント方法、および該インプリント方法を用いたインプリント装置を提供する。【解決手段】パターンを形成したモールドを被加工基板上の光硬化性樹脂に押し付けると共に、光源から発した光を、光硬化性樹脂にショットごとに露光することによって光硬化性樹脂を硬化させ、モールドを硬化した光硬化性樹脂から離型するインプリント方法であって、光源と前記モールドとの間に、光硬化性樹脂を硬化させる光の露光量を調整する露光量調整部を設け、該露光量調整部を用いて、ショットごとのパターン形成領域内において、モールドが硬化した光硬化性樹脂から最後に離型する領域の露光量を他の領域の露光量よりも小さくすることを特徴とする。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
パターンを形成したモールドを被加工基板上の光硬化性樹脂に押し付けると共に、光源から発した光を、前記モールドを介して、前記光硬化性樹脂にショットごとに露光することによって前記光硬化性樹脂を硬化させた後、前記モールドを前記硬化した光硬化性樹脂から離型するインプリント方法であって、
前記光源と前記モールドとの間に、前記光硬化性樹脂を硬化させる光の露光量を調整する露光量調整部を設け、前記露光量調整部を用いて、
前記ショットごとのパターン形成領域内において、前記モールドが前記硬化した光硬化性樹脂から最後に離型する領域の露光量を他の領域の露光量よりも小さくすることを特徴とするインプリント方法。
IPC (2件):
FI (2件):
H01L21/30 502D
, B29C59/02 Z
Fターム (13件):
4F209AA44
, 4F209AF01
, 4F209AG05
, 4F209AH33
, 4F209AH73
, 4F209AR20
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PN09
, 4F209PN13
, 4F209PQ11
, 5F046AA28
, 5F146AA28
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