特許

J-GLOBAL ID：201103057252131405

光学式センサチップの製造方法

発明者： 平川 雅章 ,  植松 育生 ,  大宮 可容子
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 堀口 浩
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-036495
公開番号（公開出願番号）：特開2011-167165
出願日： 2010年02月22日
公開日（公表日）： 2011年09月01日
要約：

【課題】センシング膜中に含まれる束縛水を除去することで、保存時のセンシング膜の浸透性変化を抑制できる光学式センサチップの製造方法を提供する。【解決手段】 光学式センサチップの製造方法は、測定対象物を酸化または還元させる第1酵素、この第1酵素の生成物と反応することにより発色剤を発色させる物質を発生する第2酵素のうちの少なくとも一方の酵素が緩衝剤を取り込んだイオン性ポリマーで覆われ、これら第1酵素、第2酵素、発色剤および非イオン性セルロース誘導体とを混合してセンシング膜形成用塗布液を調製し、基板上に形成された光導波路層上に前記センシング膜形成用塗布液を塗布、加熱乾燥してセンシング膜形成することを特徴としている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

測定対象物を酸化または還元させる第1酵素、この第1酵素の生成物と反応することにより発色剤を発色させる物質を発生する第2酵素のいずれ一方の酵素をイオン性ポリマーおよび緩衝剤の水溶液と予め混合し、この混合液を他方の酵素、発色剤および非イオン性セルロース誘導体に添加するか、または前記第1、第2の酵素をそれぞれイオン性ポリマーおよび緩衝剤の水溶液と予め混合し、各混合液を発色剤および非イオン性セルロース誘導体に添加するか、或いは前記第1、第2の酵素の両方をイオン性ポリマーおよび緩衝剤の水溶液と予め混合し、この混合液を発色剤および非イオン性セルロース誘導体に添加するか、いずれかによりセンシング膜形成用塗布液を調製する工程と、 基板に、この基板の主面に形成される光反射層内に光を入射させ、前記光導波路層外に光を放出させるための一対の光学要素を形成する工程と、 前記光学要素が形成された前記基板の主面に前記基板より高屈折率の樹脂からなる前記光導波路層を形成する工程と、 前記光導波路層上の前記光学要素間に前記センシング膜形成用塗布液を塗布、加熱乾燥してセンシング膜を形成する工程と を含むことを特徴とする光学式センサチップの製造方法。

IPC (2件)：

C12M 1/34 ,  G01N 21/27

FI (2件)：

C12M1/34 E ,  G01N21/27 C

Fターム (23件)：

2G059BB13 ,  2G059CC16 ,  2G059DD13 ,  2G059EE02 ,  2G059FF04 ,  2G059FF12 ,  2G059GG01 ,  2G059JJ17 ,  2G059JJ19 ,  2G059KK01 ,  4B029AA07 ,  4B029BB16 ,  4B029CC08 ,  4B029CC13 ,  4B029FA12 ,  4B063QA01 ,  4B063QQ68 ,  4B063QR02 ,  4B063QR03 ,  4B063QR66 ,  4B063QR84 ,  4B063QS28 ,  4B063QX02