マスクの反射防止膜剥れ修復方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：久原健太郎 , 内野則彰 , 木村信行
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-008893
公開番号（公開出願番号）：特開2002-214759
特許番号：特許第4430251号
出願日： 2001年01月17日
公開日（公表日）： 2002年07月31日
請求項（抜粋）：

【請求項1】イオンビームを用いたマスク欠陥修正装置でイオンビーム照射領域に発生する反射防止膜の剥れを導電性探針を備えた走査プローブ顕微鏡の陽極酸化で修復することを特徴とするマスクの反射防止膜剥れ修復方法。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ( 200 6.01) , G03F 1/14 ( 200 6.01)

FI (2件)：

G03F 1/08 T , G03F 1/14 F

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