特許
J-GLOBAL ID:201103057398220191
電子回路の製造装置と方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人 谷・阿部特許事務所
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-500288
公開番号(公開出願番号):特表2011-529262
出願日: 2009年03月17日
公開日(公表日): 2011年12月01日
要約:
非平面回路モジュール(20;60;70;90;100)の製造に使用される装置および方法が、記述される。装置は、非平面回路モジュール(20;60;70;90;100)を保持するためのホルダー(18)、ホルダー(18)により保持された非平面回路モジュール(20;60;70;90;100)の1つ以上の局所化された領域を活性化させるための活性化ソース(16)、および、ホルダー(18)により保持されている活性化ソース(16)と非平面回路モジュール(20;60;70;90;100)との間の相対移動を提供するための位置決め装置(10)を含む。ホルダー(18)により保持されている活性化ソース(16)と非平面回路モジュール(20;60;70;90;100)との間の相対移動は、少なくとも一の軸に沿った並進移動および少なくとも一の軸線回りの回転移動を含む。パラレル位置決め機械(10)はそのような相対移動を提供できる。
請求項(抜粋):
非平面回路モジュールの製造に使用するための装置であって、
前記非平面回路モジュールを保持するためのホルダーと、
前記ホルダーにより保持されている前記非平面回路モジュールの1つ以上の局所化された領域を活性化させるための活性化ソースと、
前記活性化ソースと、前記ホルダーにより保持されている前記非平面回路モジュールとの間の相対移動を提供するための位置決め装置と、を有し、
前記ホルダーにより保持されている前記活性化ソースと、前記非平面回路モジュールとの間の相対移動は、少なくとも一の軸線に沿った並進移動および少なくとも一の軸線回りの回転移動を含む、装置。
IPC (3件):
H05K 3/34
, H05K 13/04
, H05K 13/08
FI (3件):
H05K3/34 507D
, H05K13/04 B
, H05K13/08 Q
Fターム (18件):
5E313AA02
, 5E313AA11
, 5E313EE03
, 5E313EE24
, 5E313EE37
, 5E313FF28
, 5E313FG05
, 5E313FG06
, 5E319AA03
, 5E319AA10
, 5E319AB05
, 5E319AC20
, 5E319BB05
, 5E319CC44
, 5E319CC70
, 5E319CD26
, 5E319CD35
, 5E319GG15
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