特許
J-GLOBAL ID：201103057424795343

局部洗浄装置

発明者：
冨田 正

冨田 正 について

, 
阿部 裕幸

阿部 裕幸 について


出願人/特許権者：
アイシン精機株式会社

アイシン精機株式会社 について


代理人 (1件)： ▲高▼橋 克彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-270172
公開番号（公開出願番号）：特開2001-090154
特許番号：特許第4178353号
出願日： 1999年09月24日
公開日（公表日）： 2001年04月03日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 温水洗浄便座におけるノズルの一部に噴出孔を備えた局部洗浄装置において、 前記噴出孔に開口し、該噴出孔の軸方向の噴出流を形成する第1の開口と、 前記噴出孔に開口し、該噴出孔の接線方向の噴出流を形成する第2の開口と、 前記ノズル内に形成され前記第1の開口に連通した第1の水路と、 前記ノズル内に形成され前記第2の開口に連通した第2の水路と、 前記第1の水路および前記第2の水路に前記第1の水路および前記第2の水路を流れる洗浄水の流量の比率を変えるための第1および第2の流量調整バルブとから成り、 前記第1の水路および前記第2の水路を流れる洗浄水の流量の比率を変えることにより、 前記第1の開口からの前記噴出孔の軸方向の直線流と前記第2の開口からの前記噴出孔の接線方向の旋回流とを干渉させて噴出させる前記噴出孔と同軸的に配設された円形チャンバーを有し、 前記軸方向の噴出流と前記接線方向の噴出流との流量割合および前記円形チャンバー内における干渉状態を変えることによって、 前記噴出孔からの洗浄水の噴出パターンの到達高さおよび広がり角を連続的に制御するようにした ことを特徴とする局部洗浄装置。
IPC (2件)：
E03D 9/08 ( 200 6.01) ,  B05B 1/34 ( 200 6.01)
FI (2件)：
E03D 9/08 D ,  B05B 1/34 101
引用特許：
出願人引用 (4件)
  • 特開昭59-106637
  • 特開平2-218457
  • 特開昭58-026140
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審査官引用 (3件)

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