特許
J-GLOBAL ID：201103057439764681
薄膜磁気ヘッドの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
三反崎 泰司
, 藤島 洋一郎
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-018071
公開番号（公開出願番号）：特開2001-209908
特許番号：特許第3594864号
出願日： 2000年01月25日
公開日（公表日）： 2001年08月03日
請求項（抜粋）：
【請求項1】記録媒体に対向する記録媒体対向面側の一部に、ギャップ層を介して対向する2つの磁極を含む、互いに磁気的に連結された第1の磁性層および第2の磁性層と、2つの磁性層の間に絶縁層を介して配設された薄膜コイル部とを有すると共に、前記第1の磁性層が、トラック幅を画定する第1の一定幅部分を含む第1の磁性層部分と、前記薄膜コイル部の配設領域を覆うと共に前記第1の磁性層部分に磁気的に連結された第2の磁性層部分とを有し、前記第2の磁性層が、前記第1の磁性層の前記第1の一定幅部分に対応する第2の一定幅部分を有する薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、 反応性イオンエッチングで磁性材層を加工することにより、前記第1の磁性層の前記第1の一定幅部分を第1の幅W1となるように形成する第1のエッチング工程と、集束イオンビームエッチングにより、前記第1の一定幅部分の幅を、前記第1の幅W1からそれよりも小さな第2の幅W2(W2<W1)に狭める第2のエッチング工程とを含むことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
IPC (1件)：
FI (2件)：
G11B 5/31 A
, G11B 5/31 D
