特許
J-GLOBAL ID：201103057885088860
その場全反射蛍光XAFS測定装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (3件)：
平山 一幸
, 平山 一幸
, 海津 保三
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-237376
公開番号（公開出願番号）：特開2001-033403
特許番号：特許第3613784号
出願日： 1999年07月20日
公開日（公表日）： 2001年02月09日
請求項（抜粋）：
【請求項1】サンプルホルダーを保持するサンプルステージと、このサンプルステージの3軸を回転可能な3軸ゴニオメータと、上記サンプルステージの3方位軸を調整可能な位置調整機構と、X線導入部と、蛍光X線測定部と、を圧力制御可能な超高真空室内に備え、上記3軸ゴニオメータが上記位置調整機構に設置されており、上記3軸ゴニオメータが、基軸に回転可能に設けられた基台と、この基台に円弧状にスライド調整可能に設けられた微調台と、この微調台に固定された保持台とを備え、この保持台に上記サンプルステージが回転可能に設けられ、しかも、上記基台に対する微調台の回転軸が、上記サンプルホルダーに固定する試料表面を通り、かつ、上記保持台に対する上記サンプルステージの回転軸が、上記試料表面を通っており、上記基軸に対する上記基台の回転軸、上記基台に対する上記微調台の回転軸、および上記保持台に対する上記サンプルステージの回転軸の3つの各軸をそれぞれ個別に段階的に回転駆動する超高真空対応の各モータが、上記超高真空室内に個別に設けられ、上記3つの各軸が上記各モータでそれぞれ個別に段階的に回転し、偏光全反射蛍光XAFSを3方向から測定して3次元構造解析をすることを特徴とする、その場全反射蛍光XAFS測定装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
出願人引用 (2件)
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全反射X線分析装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平4-009789
出願人：株式会社日立製作所
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X線複合分析装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平4-186714
出願人：株式会社日立製作所
審査官引用 (2件)
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全反射X線分析装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平4-009789
出願人：株式会社日立製作所
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X線複合分析装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平4-186714
出願人：株式会社日立製作所
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