薄膜磁気ヘッドの製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：京本直樹 (外2名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-049922
公開番号（公開出願番号）：特開平2-230505
特許番号：特許第2702215号
出願日： 1989年03月03日
公開日（公表日）： 1990年09月12日
請求項（抜粋）：

【請求項1】誘導型薄膜磁気ヘッドの製造方法におけるコイル作製プロセスが、基板上にTaまたはTiからなるメッキ下地層を形成する工程と、該メッキ下地層上にコイル形状に対応したフォトレジストパターンを形成する工程と、該フォトレジストパターン間隙に電気Cuメッキ層を形成する工程と、前記フォトレジストパターンを剥離する工程と、露呈したメッキ下地層を除去する工程とからなり、露呈したメッキ下地層の除去は、CF4ガスを主成分とする雰囲気中の反応性エッチングにより行われることを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。

IPC (1件)：