特許
J-GLOBAL ID：201103058323643212
セメント原料のための竪型ローラミル
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西教 圭一郎 (外3名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-313411
公開番号（公開出願番号）：特開2002-119877
特許番号：特許第3524050号
出願日： 2000年10月13日
公開日（公表日）： 2002年04月23日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 鉛直回転軸線2を有するテーブル4a上に、ローラ31を圧接回転してテーブル4aに備えられるテーブルライナ5aとローラ31との間でセメント原料を粉砕するセメント原料のための竪型ローラミルにおいて、ローラ31は、半径方向外方に凸の円弧状の外周面を有し、ローラ31の軸線35は、テーブル4aの半径方向に延び、かつその半径方向内方に向けて下方に傾斜しており、ローラ31の軸線35を含む一平面内において、そのローラ31の軸線35方向長さの中央点Oを通り、かつローラ31の軸線35に垂直な中央線34よりもテーブル4aの半径方向外方側の第1領域では、このローラ31の外周面の凸の円弧の第1中心P2は、中央線34よりもローラ31の軸線35に平行にテーブル4aの半径方向外方側に距離d1だけずれ、かつローラ31の軸線35方向長さの範囲内の位置に存在し、前記中央線34よりもテーブル4aの半径方向内方側の第2領域では、このローラ31の外周面の凸の円弧の第2中心P3は、中央線34上に存在し、前記第1領域における前記第1中心P2を有する外周面の凸の円弧の第1曲率半径R2の最大直径D1に対する第1の比k1(=R2/D1)が0.5〜0.6の範囲の値に選ばれ、前記第2領域における前記第2中心P3を有する外周面の凸の円弧の第2曲率半径R4の前記最大直径D1に対する第2の比k2(=R4/D1)は0.5未満の値に選ばれ、テーブルライナ5aには、ローラ31の外周面に臨んでテーブル4aの半径方向に沿って円弧状にくぼんだ円弧面が形成され、前記くぼんだ円弧の中心は、前記第1中心P2に存在し、前記くぼんだ円弧の第3曲率半径R3は、第1曲率半径R2よりも大きく設定されることを特徴とするセメント原料のための竪型ローラミル。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
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