特許

J-GLOBAL ID：201103058522133380

プラズマCVD装置のチャンバークリーニング方法およびプラズマCVD装置

発明者： 平瀬 征基 ,  富山 智彦
出願人/特許権者： 株式会社半導体先端テクノロジーズ
代理人 (1件)： 高田 守 (外2名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-348928
特許番号：特許第3084024号
出願日： 1999年12月08日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 固定高周波整合回路を有するプラズマCVD装置において、CVDチャンバー圧力制御バルブの開度を固定して、チャンバー内壁の付着物をプラズマを用いてクリーニング行ない、高周波電力の反射電力の変化をモニターすることにより、クリーニングの終点を検出することを特徴とするプラズマCVD装置のチャンバークリーニング方法。

IPC (5件)：

C23C 16/44 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/00 ,  H05H 1/46

FI (5件)：

C23C 16/44 J ,  H01L 21/31 C ,  H05H 1/00 A ,  H05H 1/46 M ,  H01L 21/302 N