基板処理装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：稲岡耕作 , 川崎実夫 , 五郎丸正巳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-082248
公開番号（公開出願番号）：特開2011-216608
出願日： 2010年03月31日
公開日（公表日）： 2011年10月27日
要約：

【課題】ノズルを移動しながら基板を処理することができ、かつ、密閉チャンバの内部空間の狭空間化を図ることができる基板処理装置を提供すること。【解決手段】密閉チャンバ2は、密閉された内部空間を区画する隔壁9を有している。密閉チャンバの内部空間でウエハWが保持される。密閉チャンバ2には、移動ノズルとしての形態を有する処理液ノズル4が設けられている。処理液ノズル4を支持するノズルアーム15は、隔壁9に形成された通過孔14を介して密閉チャンバ2の内外に跨って延びている。このノズルアーム15は、密閉チャンバ2外に配置された直線駆動機構36によって駆動されるようになっている。隔壁9とノズルアーム15の外表面との間は、第3シール構造によってシールされるようになっている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

密閉された内部空間を区画する隔壁を有する密閉チャンバと、前記密閉チャンバの内部空間で基板を保持しつつ回転させるための基板保持回転手段と、前記密閉チャンバの内部空間で、前記基板保持回転手段に保持された基板の主面に向けて処理液を吐出するためのノズルと、前記ノズルを支持し、前記密閉チャンバの前記隔壁に形成された通過孔を介して前記密閉チャンバの内外に跨って延びるノズルアームと、前記密閉チャンバ外に配置され、前記ノズルアームを、前記基板保持回転手段に保持された基板の主面に沿って移動させる駆動手段とを含む、基板処理装置。

IPC (6件)：

H01L 21/304 , B08B 3/02 , G02F 1/13 , H01L 21/027 , G11B 5/84 , G11B 7/26

FI (10件)：

H01L21/304 643A , B08B3/02 D , H01L21/304 651B , G02F1/13 101 , H01L21/30 564C , H01L21/30 569C , H01L21/30 572B , G11B5/84 Z , G11B7/26 501 , G11B7/26 531

Fターム (54件)：

2H088FA17 , 2H088FA21 , 2H088FA30 , 2H088HA01 , 3B201AA03 , 3B201AB03 , 3B201AB34 , 3B201AB42 , 3B201BB22 , 3B201BB44 , 3B201BB46 , 3B201BB62 , 3B201BB92 , 3B201BB93 , 3B201BB99 , 3B201CB01 , 3B201CC01 , 3B201CC12 , 3B201CC13 , 3B201CD33 , 3B201CD36 , 5D112AA02 , 5D112BA09 , 5D112BC05 , 5D121AA02 , 5D121BB31 , 5D121EE21 , 5D121GG18 , 5D121GG20 , 5D121JJ02 , 5D121JJ04 , 5F046JA02 , 5F046LA04 , 5F046MA06 , 5F146JA02 , 5F146LA04 , 5F146MA06 , 5F157AA63 , 5F157AB02 , 5F157AB12 , 5F157AB33 , 5F157AB42 , 5F157AB74 , 5F157AB90 , 5F157AC04 , 5F157AC26 , 5F157BB22 , 5F157BB42 , 5F157BB44 , 5F157CE23 , 5F157CE25 , 5F157CF24 , 5F157CF72 , 5F157DB02

引用特許：

出願人引用 (4件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-319889 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-370756 出願人：株式会社荏原製作所
顕微鏡
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-327295 出願人：株式会社ニコン

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審査官引用 (3件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-370756 出願人：株式会社荏原製作所
顕微鏡
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-327295 出願人：株式会社ニコン
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-381261 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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